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集成电路设计滞后现象
随技术进步,建厂费用呈指数增加,这时必然出现两种趋向: 制造集成电路的掩膜很贵。根据SemaTech报告,“一套130nm逻辑器件工艺的掩膜大约需75万美元,一套90 nm的掩膜将需160万美元,一套65 nm的掩膜将高达300万美元”。然而,每套掩膜的寿命有限,一般只能生产1 000个晶圆。工艺线投资的高成本和设计能力的普遍落后,导致多数工艺线走向代工(代客户加工,Foundry)的经营道路;电路设计、工艺制造、封装的分立运行为发展无生产线(Fabless)和无芯片(Chipless)集成电路设计提供了条件,为微电子领域发展提供了条件。
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